常州周氏电子供应设备——曝光机
曝光机的优点：
微米和亚微米光刻,最小0.6微米光刻精度
紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
可升级开放性系统设计。
按照客户要求可从低端到高端自由配置
使用维护简单, 设备耗材价格低。
应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
以上内容便是曝光机的介绍。
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