供应去离子水、CEDI水、超纯水、软化水、废水（污水）中水回
电子行业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备.在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下,采用世界上最先进的反渗透膜元件.压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水.控制系统选用PLC或计算机DCS程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印 广泛适用于： 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂 光导纤维、光盘
一、应用范围概述：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片 硅片纯水 光伏硅材料DI超纯水设备-硅圆生长/切片清洗高纯水 硅材料单晶硅DI
二、典型工艺流程
预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺)
预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） (最新工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺)
处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)
三、达到标准
纯化水标准，注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据）
集成电路用纯水水质
国家电子级纯水标准
美国SEMI标准
四、设备特点
为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
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