VTC-600-2HD-1000-双靶磁控溅射仪_磁控溅射镀膜-上海添时科学仪器有限公司
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，
VTC-600-2HD-1000-双靶磁控溅射仪_磁控溅射镀膜-上海添时科学仪器有限公司
主要特点：
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。2、可制备多种薄膜，应用广泛。3、体积小，操作简便。
磁控溅射仪https://www.chem17.com/st261120/product_36555912.html
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