眉山硅片清洗超纯水报价_品质决定生存
硅片是半导体行业重要的基体材料。半导体器件生产中硅片须经过严格清洗,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,否则微量污染也会导致器件失效。那么硅片清洗为什么要用到超纯水 呢?
超纯水初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在芯片、精密仪器、电镀涂装、汽车等领域广泛应用。
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硅片切割清洗用超纯水设备特点
1、零部件均采用进口产品,技术先进。
2、质量可靠,整体化程度高,易于扩展,增加膜数量即可增加处理量。
3、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能。
4、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率。
5、能耗低,水利用率高,运行成本低。
6、结构合理,占地面积少。
7、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命。
8、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效。
9、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
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莱特莱德在中国设立了三大生产基地和四大研发中心,并以北京为营销中心辐射全国,产品在国内市场的占有率达到30%以上。近年来公司全面开拓海外水处理市场,目前已成功进入东南亚、中亚、中东、非洲、南美等市场。
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