抛光三道程序要选择不同的抛光液，粗抛选择的耗材是：粗抛液，粗磨盘(铸铁盘)。这两种耗材的成分里面，主成分的材质稍微较粗，要求硬度较高，颗粒度较大，这样才有较好的切削力。精抛选择的耗材是：精抛液，精磨盘(锡盘)。这两种耗材相对要求要高一点，需要材质更为精细，颗粒非常小的原材料生产。抛光选择的耗材是：抛光液，研磨抛光盘(铜盘)。这个耗材要求非常高，对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。
利用金刚石研磨液抛光要经历的三道工序
粗抛：去除毛坯的大部分余量，最后所达到的效果要保持到大致的几何形状与粗糙度。
精抛：粗抛完成后的下一个工序就是精抛，结果是能够保持最准确的几何形状以及精细的裂纹深度。
抛光：工件通过了粗抛、精抛工艺后，进入抛光工序;也是最终实现光学表面层实现的最后一个部分，前提下前两者必须要为最后一步抛光做好准备，使得在整个抛光过程当中，尽量去除粗抛与精抛所留下的破环层，实现光学表面非常理想镜面效果。
郑州耐力耐磨制品公司采用相适应非常好的配方，达到研磨工件不同的技术要求。按照研磨的不同要求，设计合理的加工工艺。速比相结合，非常大的限度的提高研磨质量的使用效率。技术先进保证了去除率，研磨后的粗糙度。现在我们公司的铜盘许多大型企业大量采用，验证了我们铜盘的品质，目前用我们的铜盘，提前全方面的技术指导，帮客户提供完善的解决方案。
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